徠卡真空鍍膜儀的工作原理可以簡單地理解為,將需要鍍膜的光學(xué)元件放置在真空室內(nèi),并加熱至一定溫度。然后通過控制真空室的氣壓,使各種金屬、合金、化合物等材料以蒸氣的形式沉積在光學(xué)元件表面,形成薄膜。通過控制沉積速率和時(shí)間,得到所需的膜厚和光學(xué)性能。
徠卡真空鍍膜儀具有以下幾個(gè)特點(diǎn):
高純度材料:使用的鍍膜材料具有高純度,能夠保證薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。這對于要求高精度光學(xué)元件的制造非常重要。
高均勻性:采用特殊的蒸發(fā)源和鍍膜工藝,能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜在光學(xué)元件表面的均勻沉積。這樣可以避免膜層不均勻帶來的光學(xué)性能降低的問題。
快速速度:具有鍍膜速度,可在短時(shí)間內(nèi)完成大面積光學(xué)元件的鍍膜作業(yè)。這對于大規(guī)模生產(chǎn)有很大的優(yōu)勢。
多功能性:可以針對不同的光學(xué)元件和應(yīng)用需求,靈活調(diào)整鍍膜材料和工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)多種薄膜鍍積,如增透膜、反射膜、濾光膜等,滿足不同光學(xué)性能要求。
可控性:具有強(qiáng)大的控制系統(tǒng),能夠控制薄膜的厚度、均勻性和光學(xué)性能。這可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整,以滿足不同的應(yīng)用需求。
徠卡真空鍍膜儀的操作使用步驟:
1.將待鍍膜物品清洗干凈,并確保表面無塵與油污。
2.將待鍍膜物品放置在鍍膜儀的樣品臺(tái)上。
3.按照設(shè)備說明書,啟動(dòng)真空鍍膜儀,啟動(dòng)后等待設(shè)備真空化。
4.當(dāng)設(shè)備真空度達(dá)到要求時(shí),切換到需要的鍍膜氣源(如氮?dú)?、氧化鋯氣體等)。
5.根據(jù)所需的鍍膜工藝參數(shù),設(shè)定相應(yīng)的電流、電壓、時(shí)間等參數(shù),再開始進(jìn)行鍍膜操作。
6.鍍膜操作完成后,關(guān)閉鍍膜氣源,停止鍍膜過程。
7.放出真空度后,將鍍膜物品取出,進(jìn)行檢查與測試。
徠卡真空鍍膜儀的維護(hù)保養(yǎng)方法:
1.定期清潔設(shè)備內(nèi)外表面,確保無塵污,防止污物影響鍍膜效果。
2.定期給設(shè)備的活動(dòng)部件潤滑,以保持運(yùn)行順暢。
3.嚴(yán)禁設(shè)備碰撞,防止設(shè)備損壞或影響鍍膜質(zhì)量。
4.注意操作規(guī)程,避免錯(cuò)誤操作導(dǎo)致設(shè)備故障。
5.定期檢查設(shè)備各部件的工作狀態(tài),確保設(shè)備正常運(yùn)行。
6.對發(fā)現(xiàn)的設(shè)備故障及時(shí)維修,避免其進(jìn)一步惡化。