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真空鍍膜機(jī)的操作使用

更新時(shí)間:2022-01-12      點(diǎn)擊次數(shù):4120
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。
 
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
 
真空鍍膜機(jī)的操作使用:
 
1、檢查設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。
2、打開總電源開關(guān),真空鍍膜設(shè)備送電。
3、低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。
7、開復(fù)合真空計(jì)電源。
(1)左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。
(2)低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。
8、當(dāng)?shù)驼婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
9、真空鍍膜設(shè)備開通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。
10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開高壓閥。
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